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平面刻线衍射光栅

    制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精确路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。

  • 产品参数

    制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精确路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。

材料:             浮法玻璃

表面光洁度:  60-400

尺寸误差:     ±0.5 mm

厚度公差:        ±0.5 mm

效率:               60%~80% @闪耀波长

有效孔径:        90%

损伤阈值:       350mJ/cm2 @200ns脉冲激光

                     40W/cm2  (CW)连续激光


平面刻线衍射光栅
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