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平面刻线衍射光栅
制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择，通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整，可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精确路线折回，并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。
- 产品参数
制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择，通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整，可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精确路线折回，并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。
材料： 浮法玻璃
表面光洁度： 60-400
尺寸误差： ±0.5 mm
厚度公差: ±0.5 mm
效率: 60%~80% @闪耀波长
有效孔径: 90%
损伤阈值: 350mJ/cm2 @200ns脉冲激光
40W/cm2 （CW）连续激光
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